中国首台7纳米光刻机(中科院高端光刻机最新突破)

我们知道,因为ASML所制造的光刻机,使用了一部分来自于美国的技术,受此影响,那么芯片代工厂就无法为华为生产芯片。

中科院立功!国产光刻机正式传来好消息,该来的总会来

目前华为最先进的芯片,还是停留在麒麟9000,采用台积电5纳米工艺,随着时间的推移,华为的麒麟9000芯片也越来越少,目前只能购买高通的4G芯片来继续发展旗舰机型。

因此我们看到,光刻机在芯片制造领域非常重要,目前我们国产的光刻机,只能生产90纳米芯片,下一步要突破的就是28纳米。

可以说,如果解决了28纳米光刻机的问题,那么我们就可以自主生产大部分芯片,因为要采用先进工艺的芯片很少。

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相信大家还记得,在2020年时,中科院白春礼院长表示,将部署光刻机等“卡脖子”领域攻关,现在我们在中科院官网依然可以看到这篇报道。

而根据目前刚刚发布的最新信息来看,中科院似乎已经迈出了关键一步。

国产光刻机正式迎来了好消息

根据媒体报道,北京国望光学的生产基地项目,已经进行了中标候选人公示,该生产基地项目,就是投影光刻机曝光光学系统研发及批量生产基地。

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据悉,该项目将在2023年投入运行,届时将可以提供包括28纳米及以下工艺等在内的光刻机曝光光学系统产品。

所谓的光刻机曝光光学系统,我们可以简单地理解成是光刻机的曝光镜头,当然曝光系统要复杂得多,这里是为了便于理解,该部分的难点在于提升镜头的数值孔径,因为数值孔径越大,那么就可以支持光刻机生产更先进工艺的芯片。

很显然,这次国望光学的生产基地即将开始建设,而且2023年就将可以量产供货,那么我们的国产光刻机,就有望升级到28纳米,甚至更加先进。

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而28纳米光刻机,通过多重曝光和利用3D先进封装工艺,在芯片的性能上,就有可能打造出媲美7纳米工艺的水平。

不仅如此,上面我们看到,国望光学即将量产的产品,除了28纳米,还有28纳米以下的产品,所以很有可能推出14纳米,甚至是7纳米的产品。

总之,现在我们已经可以期待,我们的国产光刻机迈出了关键的一步,而这关键的一步,离不开中科院多年的努力。

很多朋友不理解了,这跟中科院有什么关系呢?

其实有直接的联系,国望光学是长春国科精密的大股东,100%的控股,然后下面我们就要简单地讲一下历史。

在2009年,启动了“高NA浸没光学系统关键技术研究”,这是02专项核心任务光刻机项目群的核心攻关项目,由中科院长光所、上光所和光电研究院来联合攻坚。

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最终该项目在2017年被验收,验收的地点就是长春国科精密。

而曝光光学系统研发核心的骨干人员,也在2017年转入到长春国科精密,至此开始走向企业化运行。

紧接着,在2018年,上海微电子,也就是我们的光刻机整机集成制造厂,就到访了国科精密,之后的交流座谈则是在长光所举行。

也就是说,我们的光刻机整机厂上海微电子,一直关注着国内光刻机关键供应商的发展情况,而且彼此之间的合作非常密切。

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所以我们更能期望,一旦国望光学的曝光系统实现交货,那么上海微电子的光刻机就有望迅速升级。

届时,答案就会揭晓,到底最终我们的国产光刻机可以进步到多少纳米工艺,或许下一步就是突破EUV,对此大家怎么看呢?

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